PVD溅射机
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PVD溅射机

J-NOVA

硅晶片减薄和碳化硅晶片加工专用设备--由Jo Techny开发和交付
  • 产品描述

    +

    该设备通过旋涂将UV固化树脂施加到晶片表面,然后在真空环境中粘合涂有LTHC的支撑玻璃,通过UV固化完成该过程,以实现可靠的粘附。

  • 关键技术

    +

    我们应用了一种测量玻璃晶片厚度的技术,并相应地调整树脂涂层厚度,以最大限度地减少TTV(总厚度变化)

    TTV被连续测量和控制,以确保晶片厚度均匀,并减少生产过程中与设备相关的误差。

    采用晶片位置补偿机制以提高对准精度。

  • 适用流程

    +

    WSS(晶圆支撑系统)

  • 系统功能

    +

    尺寸(主机)
    宽×深×高=1300×1630×2100(单位:毫米)
    重量
    1100公斤
    控制
    板和PC控制,触摸面板
    适用产品
    硅晶片薄化工艺、碳化硅晶片加工
    晶圆尺寸
    150毫米、200毫米
    吞吐量
    超过15WPH(单树脂工艺)
    真空压力
    小于60帕
    盒式磁带机
    第一站:晶圆装载
    第二站:玻璃装载
    第三站:安装晶圆卸载

详细视图